桌面式匀胶机系统，性价比高，具有匀胶、清洗、显影和干燥等多种功能，旋涂机样品最大尺寸为8寸晶圆或者150mm*150mm方片，匀胶原理是利用电机高速旋转时所产生的离心力使胶液均匀地涂敷在基底材料的表面，形成一层微米或纳米厚度的均匀薄膜。广泛用于大学，研究所等科研实验室。

　　桌面型匀胶机产品特色

　　1. 桌面版本的紧凑型设计

　　2. 手动装载/卸载

　　3. 衬底最大可达 Ø200 mm (Ø8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)

　　4. 软件提供用户友好的操作

　　5. 直驱旋涂电机

　　6. 全轴电机驱动且完全可编程

　　7. 带安全中断传感器的透明盖

　　8. 可更换并易于拆卸的工艺腔和防溅环，方便清洁。

　　9. 系统材料可抵抗所有类型的抗蚀剂和溶剂以及各种清洁介质。 (PP-聚丙烯)

　　10. 包含 0.5 升废液瓶

　　 匀胶机技术数据：

　　1. 衬底尺寸: 最大可达 Ø200 mm (Ø8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)

　　2. 电机转速: 最大 10.000 rpm，步长 1 rpm

　　3. 电机加速: 最大 4.000 rpm/s

　　4. 步进时间: 1 至 999.9 s，步长为 0.1 s

　　5. 工作腔材料: PP

　　6. 系统架构材料: PP

　　7. 液体线路：

　　8. 3线 : 2 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞

　　9. 5线: 6 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞

　　匀胶设备可选配项

　　1. 自动液体输送臂 2. 液体罐 3. 防溅环

　　4. 废液池 5. DI水冲洗 6. N2吹扫

　　7. 热板 8. 不同类型的夹具 9. 中心定位模块

　　匀胶机加速度知识说明

　　速旋转的时间可以从10秒到几分钟。匀胶的转速以及匀胶时间往往能决定最终胶膜的厚度。一般来说，匀胶转速快，时间长，膜厚就薄。影响匀胶过程的可变因素很多，这些因素在匀胶时往往相互抵销并趋于平衡。

　　所以最好给予匀胶过程以足够的时间，让诸多影响因素达到平衡。匀胶工艺中最重要的一个因素就是可重复性。微细的工艺参数变化会带来薄膜特性巨大的差异，下面对一些可变的因素进行分析：

　　匀胶过程中基片的加速度也会对胶膜的性能产生影响。因为在基片旋转的第一阶段，光刻胶就开始干燥(溶剂挥发)了。所以精确控制加速度很重要。在一些匀胶过程中，光刻胶中50%的溶剂就在匀胶过程开始的几秒钟内挥发掉了。

　　在已经光刻有图形的基片上匀胶，加速度对胶膜质量同样起重要作用。在许多情况下，基片上已经由前面工序留下来的精细图形。因此，在这样的基片上穿越这些图形均匀涂胶是重要的。

　　匀胶过程总是对光刻胶产生离心力，而恰恰是加速度对光刻胶产生扭力(twisting force),这个扭力使光刻胶在已有图形的周围散开，这样就可能以另一种方式用光刻胶覆盖基片上有图形的部分。

　　匀胶机的加速度可以设定，精度1rpm/秒。在操作时，电机以线性跃升加速(或减速)到最终的匀胶速度。