匀胶机/旋涂仪有很多种称谓，英文叫Spin Coater或者Spin Processor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

　　匀胶机尽管是一款原理比较简单的实验室小型仪器，但影响匀胶效果的却有匀胶速度(speed)、匀胶时间(time)、匀胶加速度(acceleration)、控制精度(accuracy)等因素。其中最重要的就是控制精度(accuracy)，没有控制精度，其他的设置都是虚无。这也是某些品牌匀胶机最致命的问题所在。

　　一、旋涂仪与匀胶机结构和原理的区别

　　旋涂仪和匀胶机在结构和原理上有很大的区别。旋涂仪主要由旋转圆盘和涂布刮刀组成，采用摩擦力和液体表面张力帮助将液体涂布在基材上。而匀胶机则采用辊轮或刮刀用力将胶液平均涂布在基材上。因此，匀胶机更加适用于细粘度的材料，而旋涂仪则可以实现更高的涂布精度。

　　结构不同：匀胶机的主要结构部件包括搅拌桶、搅拌器、电机、减速机等。而旋涂仪则包括转盘、加料器、刮刀、喷嘴、电机等。

　　二、 旋涂仪与匀胶机适用范围的区别

　　旋涂仪和匀胶机往往适用于不同大小的工件。匀胶机适用于平面、弯曲、大型或较厚的物料的涂布处理，而旋涂仪则适用于更加细小的物料涂布。旋涂仪对材料的大小和形状有严格的限制，在孔径尺寸、转速控制和粘度调整等方面也要求更加精细。

　　匀胶机和旋涂仪在使用场景、结构、涂布精度和价格等方面有很大的不同。 使用场景不同：匀胶机通常用于粘合剂、涂料、胶水、油墨等物料的制备和混合过程中，将不同颜色、不同性质的物料均匀混合。而旋涂仪则主要用于薄膜材料的涂布过程中，如光学薄膜、电池膜、导电膜、医用膜等。

　　三、 旋涂仪与匀胶机 效率和准确度的区别

　　旋涂仪和匀胶机的效率和准确度也有所区别。匀胶机一般能够实现较快的涂布处理，但其精度较低;而旋涂仪需要消耗更长的时间完成涂布，但可以实现更高的精度和更为均匀的涂布效果。

　　涂布精度不同：匀胶机的主要作用是将不同的物料混合均匀，对混合粘度、温度等有较高要求，但涂布精度要相对低一些。旋涂仪的主要作用是进行薄膜涂布，涂布精度要求相对较高，一般在数十纳米的级别。

　　【结论】

　　综上所述，旋涂仪和匀胶机在结构和原理、适用范围、效率和准确度等方面都存在较大的差异。企业在使用时应根据材料的特点、企业的需求和涂布过程中的要求来选择使用哪一种设备

　　价格差异较大：一般来说，匀胶机的价格要低于旋涂仪。匀胶机的结构相对简单，适合大批量生产，同时运行成本也较低。而旋涂仪的涂布精度要求高，结构更为复杂，价格也更高。

　　综上所述，匀胶机和旋涂仪在使用场景、结构、涂布精度和价格等方面有很大的不同。

　　半导体的匀胶机具有以下优点：

　　1. 匀胶机底座采用耐酸碱、耐冲击、耐腐蚀不锈钢，易于清洗。

　　2. 匀胶机采用全色7英寸触摸屏控制面板，操作直观简单。

　　3. 控制面板可以显示即时旋涂速度和时间，设置的参数旋涂过程一目了然。

　　4. 匀胶机采用高精度称重传感器，能够实现±0.1克的精度控制。

　　5. 设备自动计算胶水使用量，并自动补偿，确保每次使用量的精确一致。

　　6. 独特的胶水循环系统，能够确保胶水长时间匀速搅拌。

　　7. 采用了开放式结构，方便操作人员查看设备运行状况，安全性更高。

　　8. 配备可编程控制器(PLC)和触摸屏，能够实现精准控制和快速调试。

　　9. 采用高精度电机驱动，能够实现高速、高精度的涂胶效果。

　　10. 设备设计合理，结构紧凑，外观大方，易于维护和保养。

　　综上所述，智程半导体的匀胶机具有多种优点，能够提供高效、精确、稳定的涂胶效果，适用于各种半导体制造应用场景。

　　——匀胶机顾名思义，一种可以“让胶液均匀涂敷的机器”。所有数据结果都可以通过电脑输出并予以保存。完成从单纯旋转机器到旋涂仪器的升级。

　　匀胶机是一种常见用于材料薄膜制备工艺的实验室设备，它的原理相对比较简单，利用电机高速旋转时所产生的离心力使得试液或者胶液均匀地涂敷在基底材料的表面，顾名思义，一种可以“让胶液均匀涂敷的机器”。

　　匀胶机有很多称谓，匀胶台，旋转涂膜机，旋转涂层机或者旋转涂敷机等等，它的英文是SpinCoater(旋转涂膜的意思)。

　　匀胶机既然是科研开发上制备薄膜材料所需的方法之一，使用者对于该设备很大的期待就在于其能够“均匀”地涂敷试液或者胶液。通常我们会用均一性和可重复性来衡量薄膜材料制备的好坏。

　　国内外对于这种匀胶旋涂设备的发展呈现出很大的差距。中国国内优先开展匀胶机研制的单位是中科院微电子所，推出的KW-4A型号的匀胶机，具有低速起步和高速旋转两个单位。

　　国外的高性能匀胶机较早则集中在美国和德国。后来随着半导体工业的发展，日韩等国家也开发出性价比较高的匀胶机器。

　　日韩等国随着在半导体制程，LCD，TFT显示材料的研发制造等领域的发展占据先机，所开发的产品基本上集中于半导体湿制程系列工艺中的自动化控制系统，由于涉及到与其它工序的自动化集成的趋势，故产品价格高得也令人咂舌。目前美德诸多公司也放弃利润低下的单独功能的匀胶产品发展，全部集中于半导体整体工艺的解决方案提供。

　　匀胶设备除了对于转速的精密控制以外(转速范围50~12000转/分，分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，无需再校准，加速度可达80000RPM/S，最低则可达1RPM/S)，加速时间可调范围1秒至99分59.9秒，最小增加度0.1秒。

　　匀胶机还可以通过与电脑链接，以及随机附带的SPIN分析软件，对于每次实验结果进行分析调试，并挑选出很好的的制备过程。所有数据结果都可以通过电脑输出并予以保存。完成从单纯旋转机器到旋涂仪器的升级。